高刚性主轴结构,可通过联轴器吸收部分振动,抛光时不会发生有害的震动,有利于提高产品的抛光质量。
上抛光装置采用电机驱动曲柄滑块往复运动机构,实现上盘整体稳定摇摆,摇摆速度0~100mm/s,摇摆幅度最大可达700mm。
采用双电机独立驱动装置,五个单独的游星轮和上抛光盘单独驱动运转,使整体结构紧凑,运行平稳。
采用气缸直驱控制上抛光盘的升降与翻转,升降快速且平稳;翻转的角度可达75°。
采用吸附衬垫的吸附方式来固定工件。
采用plc和触摸屏控制,在触摸屏里可预设不同压力条件下的工艺参数。
变频调速驱动装置,实现软启动、软停止,可根据用户的工艺需求调节机器转速,达到理想的研磨速度。
下盘尺寸:φ1300×200(mm)
上盘尺寸:φ1000×40(mm)
上盘升降行程:0~140(mm)
上盘移动幅度:±350(mm)
上下盘间偏心度:140~200(mm)
工件厚度:0.15~1.1(mm)
下盘转速:0~50(mm)
上盘压力范围:50~300(kg)
电源/耗电量:3 phase-380v/13kva
气源/耗气量:0.45~0.65(mpa)/30((l/min)
主机尺寸:2720×2250×2370(mm)
机器重量:~8000(kg)